Главная Учебники - Разные Лекции (разные) - часть 55
|
Стр. 1 Принцип действия полевого транзистора 2 Вольт-фарадная характеристика МОП-структуры 3 Расчет стоковых и стокозатворных характеристик 4 Определение напряжения насыщения и напряжения отсечки 5 Расчет крутизны стокозатворной характеристики и проводимости канала 6 Максимальная рабочая частота транзистора 1 Принцип действия транзистора
В отсутствии смещений (UЗ
=0, UС
=0) приповерхностный слой полупроводника обычно обогащен дырками из-за наличия ловушек на границе кремний – оксид кремния и наличия положительных ионов в пленке диэлектрика. Соответственно энергетические зоны искривлены вниз, и начальный поверхностный потенциал положительный. По мере роста положительного напряжения на затворе дырки отталкиваются от поверхности. При этом энергетические зоны сначала выпрямляются, а затем искривляются вниз, т.е. поверхностный потенциал делается отрицательным. Существует некоторое пороговое напряжение , по превышении которого энергетические зоны искривляются настолько сильно, что в близи поверхностной области образуется инверсный электрический сой, именно этот слой играет роль индуцированного канала. 1.1 Равновесное состояние
Рисунок 1.1 – Равновесное состояние Т.к. UЗ
=0, то контактная разность потенциалов между металлом и полупроводником равна нулю, то энергетические зоны отображаются прямыми линиями. В таком положении уровень Ферми постоянен при UЗ
=0, полупроводник находится в равновесном состоянии, т.е. pn = pi
2
и ток между металлом и полупроводником отсутствует. 1.2 Режим обогащения (UЗ
>0) Если UЗ
>0, то возникает поле направленное от полупроводника к затвору. Это поле смещает в кремнии основные носители (электроны) по направлению к границе раздела кремний – оксид кремния. В результате на границе возникает обогащенный слой с избыточной концентрацией электронов. Нижняя граница зоны проводимости, собственный уровень и верхняя граница валентной зоны изгибаются вниз.
Рисунок 1.2 – Режим обогащения 1.3 Режим обеднения (UЗ
<0) Если UЗ
<0, то возникает электрическое поле направленное от затвора к подложке. Это поле выталкивает электроны с границы раздела Si – SiO2
в глубь кристалла оксида кремния. В непосредственной близости возникает область обедненная электронами.
Рисунок 1.3 – Режим обеднения 1.4 Режим инверсии (UЗ
<<0) При дальнейшем увеличении отрицательного напряжения UЗ
, увеличивается поверхностный электрический потенциал US
. Данное явление является следствием того что энергетические уровни сильно изгибаются вверх. Характерной особенностью режима инверсии является, то что уровень Ферми и собственный уровень пересикаются.
Рисунок 1.4 – Режим инверсии 1- инверсия; 2- нейтральная. 1.5 Режим сильной инверсии Концентрация дырок в инверсной области больше либо равна концентрации электронов. 1.6 Режим плоских зон
Рисунок 1.5 – Режим плоских зон 1 - обогащенный слой неосновными носителями при отсутствии смещающих напряжений изгибает уровни вниз. 2 Вольт-фарадная характеристика МОП-структуры
Удельная емкость МОП-конденсатора описывается выражением:
где:
- удельная емкость, обусловленная существованием области пространственного заряда.
- емкость обусловленная оксидным слоем. Эквивалентную схему МОП-структуры можно представить в виде двух последовательно соединенных конденсатора:
Рисунок 2.1 – Эквивалентная схема МОП-структуры UЗ
[B] С [Ф] 0.01 0.05 0.1 0.2 0.22 0.26 0.3 0.32 0.36 0.4 0.42 0.46 3.182e-5 3.182e-5 3.182e-5 3.182e-5 3.182e-5 3.182e-5 3.182e-5 3.182e-5 3.182e-5 3.182e-5 3.182e-5 3.182e-5
Рисунок 2.2 – График зависимости емкости от приложенного напряжения на затворе
Рисунок 2.3 – Отношение С/С0
как функция напряжения, приложенного к затвору 3 Вольт-амперные характеристики
3.1 Стоковые характеристики Формула описывающая вольт-амперную характеристику имеет вид:
где
- пороговое напряжение
- напряжение Ферми
- плотность заряда в обедненной области Таблица 3.1 – Таблица значений токов и напряжений стоковой характеристики UC
[B] UЗ
= 9 UЗ
= 10 UЗ
= 11 UЗ
= 12 UЗ
= 13 IC
[A] 0 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 0.000 2.322e-3 4.334e-3 6.037e-3 7.431e-3 8.515e-3 9.290e-3 9.756e-3 9.913e-3 9.761e-3 9.299e-3 8.528e-3 7.448e-3 6.058e-3 4.359e-3 2.351e-3 3.399e-5 0.000 2.631e-3 4.952e-3 6.965e-3 8.668e-3 0.010 0.011 0.012 0.012 0.013 0.012 0.012 0.011 0.010 8.689e-3 6.990e-3 4.982e-3 0.000 2.940e-3 5.571e-3 7.892e-3 9.905e-3 0.012 0.013 0.014 0.015 0.015 0.015 0.015 0.015 0.014 0.013 0.012 9.930e-3 0.000 3.249e-3 6.189e-3 8.820e-3 0.011 0.013 0.015 0.016 0.017 0.018 0.019 0.019 0.019 0.018 0.017 0.016 0.015 0.000 3.559e-3 6.808e-3 9.748e-3 0.012 0.015 0.017 0.018 0.020 0.021 0.022 0.022 0.022 0.022 0.022 0.021 0.020
Рисунок 3.1 – График зависимости тока стока от функции напряжения стока при постоянных значениях напряжения на затворе 3.2 Стоко-затворная характеристика
при UC
=4B Таблица 3.2 – Таблица значений токов и напряжений стокозатворной характеристики UЗ
[B] IC
[A] 0 0.1 0.2 0.3 0.4 0.5 0.6 0.7 0.8 0.9 3.703e-3 3.826e-3 3.950e-3 4.074e-3 4.197e-3 4.321e-3 4.445e-3 4.569e-3 4.692e-3 4.816e-3
Рисунок 3.2 – График зависимости тока стока от напряжении на затворе 4 Напряжения насыщения и отсечки
Напряжение отсечки описывается выражением:
Напряжение насыщение описывается формулой:
где:
- толщина обедненного слоя. Таблица 4.1 – Таблица данных напряжения стока и напряжения насыщения UЗ
UНАС
UОТ
-0.5 -0.4 -0.3 -0.2 -0.1 0 0.1 0.2 0.3 0.4 0.5 0.92 1.59 2.45 3.50 4.730 6.14 7.7411 9.5 11.4890 13.63 15.973 0.2387 0.410 0.62 0.8911 1.2 1.55 1.9583 2.4063 2.9 3.4 4.0
Рисунок 4.1 – График зависимости напряжения насыщения от напряжения на затворе
Рисунок 4.2 – График зависимости напряжения отсечки от напряжения на затворе 5.1 Крутизна стокозатворной характеристики описывается выражением:
где:
5.2 Проводимость канала:
6 Максимальная рабочая частота транзистора
Максимальная рабочая частота при определенном напряжении стока описывается формулой:
Таблица 6.1 – Таблица значений частоты при фиксированном напряжении стока Uc fmax
0 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 0.000 8.041e6 1.608e7 2.412e7 3.217e7 4.021e7 4.825e7 5.629e7 6.433e7 7.237e7 8.041e7 8.846e7 9.650e7 1.045e8
Рисунок 6.1 – График зависимости частоты транзистора от напряжения на стоке. Список использованной литературы
1 Л. Росадо «ФИЗИЧЕСКАЯ ЭЛЕКТРОНИКА И МИКРОЭЛЕКТРОНИКА» М.-«Высшая школа» 1991 – 351 с.: ил. 2 И.П. Степаненко «ОСНОВЫ ТЕОРИИ ТРАНЗИСТОРОВ И ТРАНЗИСТОРНЫХ СХЕМ», изд. 3-е, перераб. и доп. М., «Энергия», 1973. 608 с. с ил. | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||